下一步就是把光，通过一个光学系统，收集并投影到涂上了光刻胶的硅片上面。
这个光学系统，也是整台光刻机中，造价成本占比最大的。
这部分康驰准备对大秦光学的镜头生产线，进行升级，然后把它给拆了，直接获得光刻机镜片和反射镜制造，所需要的大部分设备零件。
这么做的效率无疑会高很多，
而且升级后的生产线，估计连解析项目都没有，
因为里面的大部分技术，康驰在解析光刻机的时候，就已经得到了，他本人拥有非常大的解释空间。
唯一的缺点就是，需要他在接下的项目中，进行一定的混淆视听，把这些拆分开的组件，神不知鬼不觉地掺到整个项目里去。
嗯，
就是欺负严辉他们对光刻机没啥研究，
到时候估计也是康驰让他们干什么，他们就干什么，思考空间并不多。
至于光刻机最后的一个关键系统，则是承载硅片的双工件台系统。
它的工作原理很简单，就是在光刻中不断的挪动硅片的曝光部位，但其中的技术含量其实非常大。
因为这个工作平台必须快、准、狠。
速度，决定了光刻机的效率，
移动太慢了，光刻机的产量就不行，
这就要求它，在高速移动后，还得迅速且精准地停下，
停留的位置误差，还得在1nm以内，
但凡偏差大一点，整个晶圆就直接报废了！
这啥概念？
大概就是一辆高速行驶的汽车，突然紧急刹停，然后停下位置误差还不能超过1毫米。
不过这个难点，在今年5月份的时候，刚好被铪工大给搞定了，
他们研发出来的真空高速超精激光干涉仪，位移的分辨率达到了惊人的5pm，位移误差控制在了30pm！
要知道，1000pm才等于1nm！
0.03nm的位移误差，简直牛逼到不行！
康驰简直怀疑，他们是不是和自己一样开了挂……
讲真，华国能人还是挺多的，
如果不靠系统，康驰自己虽然也有一定的把握可以攻克这种技术，但时间就不知道要多久了……
所以康驰一直也不断地在提醒自己，虽然系统确实好用，但自己学习和理解的脚步同样不能停下。
这不但是为了在解析技术的时候，减轻自己的痛苦，免得突然暴毙，更是为以后万一出现精通点不够，需要自研的情况出现时，不至于两眼一抹黑啥也干不了。
总之EUV光刻机的大部分技术难点，其实华国都已经攻克或即将攻克了，只